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擴散製程目的
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RCA clean 製程 - 弘塑科技股份有限公司
SC-1(APM), 利用氨水之弱鹼性活化矽晶圓及微粒子表面,使晶圓表面與微粒子間相互排斥,進而達到洗淨目的;雙氧水也可將矽晶圓表面氧化,藉由氨水對二氧化矽的微蝕刻 ...
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