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擴散製程目的
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5 Thermal Processes
之製程. • 使用在front-end 半導體製程,通常在稱. 做擴散爐的高溫爐中 ... 在IC製造的先期,氧化及擴散是其製程 ... 目的:在高溫短時間內得到高品質的薄氧化層。
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