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擴散製程目的
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常用的鍍膜製程
(nucleation rate)的急遽增加以及表面擴散的加速。也可以說,鍍 ... 在VLSI製程中,常用連續式系統來完成APCVD的工作, ... 達到化學氣相沈積之目的。
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