你即將離開本站

並前往http://www.topchina.com.tw/topchina/servlet/DownloadServlet?location=/topchina/uploadFiles/km/5108_IC+INTRO-nlogo.pdf&file_name=5108_IC+INTRO-nlogo.pdf

IC 製程簡介

製程 原理簡介: a. 擴散→ oxidation, doping b. 薄膜→ CVD, PVD c. 微影 d. 蝕刻→ dry, wet etching e. 化學機械研磨CMP. 2. 製程整合簡介: - CMOS process flow簡介.

確定！ 回上一頁

查詢 「擴散製程介紹」的人也找了：

  1. 擴散製程目的
    2.
  2. 擴散製程工作內容
    3.
  3. 半導體擴散原理
    4.
  4. 擴散製程爐管
    5.
  5. 半導體四大製程順序
    6.
  6. 半導體擴散
    7.
  7. 半導體製程介紹
    8.
  8. 四大製程工程師
    9.