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半導體製程與原理 - 崑山電子歷程

擴散 方法是使用植入雜質或雜質的氧化物作氣相附著，將雜質原子植入半導體晶圓的表面附近區域。雜質濃度由表面成單調遞減，雜質的分佈固形取決於溫度及擴散 ...

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