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技术／设计| 半导体曝光装置

实现所需的极高重合精度，将误差控制在几纳米以内，同时具备高产能，有效地实现具有20纳米或更小节点设备的大规模生产。ArF液浸扫描式曝光机NSR-S635E，是一款为满足5nm ...

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