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CN101487988A - 光刻机扫描曝光方法
光刻技术在经历了接触式、接近式、投影式、扫描式、步进式几个重大技术发展阶段后,向步进扫描式过渡。 光刻机三大核心指标为线宽均匀性、套刻精度和产率。线宽均匀性 ...
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