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從頭了解光刻機| 尋夢新聞

1980年代，美國SVGL公司開發出第一代步進掃描投影曝光機，集成電路圖形線寬 ... 極端紫外光刻技術所使用的光刻機的對準套刻精度要達到10nm，其研發和製造原理實際上和 ...

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