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掃描式曝光機原理
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光刻技术的原理和EUV光刻技术前景 - 中国科学院半导体研究所
1980年代,美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机,集成电路图形 ... 调平调焦技术,因为光刻机在工作时拼接图形和步进式扫描曝光的次数很多。
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