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高真空鍍膜機

此種方法的特點. 是在真空條件下加熱蒸發源，將待蒸發的熱穩性化合物加熱至高溫，使之揮發成蒸氣霧而噴. 敷在試樣表面，因而達到蒸鍍的目的。 真空度是蒸鍍薄膜的一個首要 ...

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