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應用光學
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應用光學鄰近效應修正與實驗設計法於製程寬容度最適化
目前以248 奈米波長深紫外光為主要微影成像技術之光源,原本之設計準則為0.25 微米,但現半導體界已將其推進至0.18微米,使聚焦深度與照射寬容度嚴重緊縮, 光學鄰近 ...
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