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快速熱退火原理
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快速熱退火 - 中文百科全書
快速熱退火 (RTA)技術指的是將晶片從環境溫度快速加熱至約1000–1500K,晶片達到該溫度後會保持幾秒鐘,然後完成淬火。這種技術主要被套用於薄膜電晶體、太陽電池等器件 ...
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