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Fe/Si多层膜经快速热退火合成β-FeSi2薄膜的研究 - 真空技术网

采用磁控溅射仪在高阻Si(100)衬底上沉积了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]120和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多层膜,并在Ar气气氛下进行了1000℃,10s 的快速热退火。

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