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快速加熱退火
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快速热退火设备工艺和原理介绍-优造节能
优造节能快速热退火(RTA)技术指的是将晶片,从环境温度快速加热至约1000–1500K,晶片达到该温度后会保持几秒钟,然后完成淬火。这种技术主要被应用于薄膜 ...
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