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快速加熱退火__臺灣博碩士論文知識加值系統

對於離子佈植的矽晶片，利用快速加熱退火來活化雜質，減少佈植傷害與雜質擴敵，使晶片再結晶。使用拉曼散射與穿透式電子顯微鏡來檢查結晶情形。

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