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TWI455208B - 受控制的退火方法 - Google Patents

快速 熱處理(Rapid thermal processing，RTP)為在半導體製造期間用於退火基板的處理。在該處理期間，熱輻射用於在可控的環境中將基板快速加熱到超過室溫的900度以上。

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