IC製造主要是把光罩(Mask)的電路圖移轉到晶圓(Wafer)之上,程序複雜, ... EUV微影設備單價雖高,但可顯著減少薄膜、蝕刻和檢測的循環次數,因此可大幅加速產品的量產速度, ...
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