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半導體解密：ASML曝光機憑什麼能一廠獨大？台積電總 ... - T客邦

首先曝光膠處理設備把曝光膠旋塗到晶圓表面，再經過分步重複曝光和顯影 ... 把，相比之前在傳統乾式微影上的投入，押注浸潤式技術更有可能以小博大。

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