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台積電有危險？美企竟做出0.7奈米晶片 - 全一電子

艾司摩爾（ASML）還在為製造2奈米、1奈米必用極紫外光（EUV）設備努力之際 ... 儘管EBL技術的精密度超越艾司摩爾EUV微影設備，但缺點是產量很低，無法 ...

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