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這設備30年前問世至今仍在使用，助ASML登上半導體微影曝光 ...

不論是極紫外光微影曝光設備(EUV) 或是深紫外光微影曝光設備( DUV)，當前都被廣泛用在邏輯晶片與記憶體生產上，可說是當前半導體製程中不可或缺的關鍵 ...

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