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利用干涉微影製作於193波長之近場微影用相位光罩之研究

利用最佳化的條件，我們可以得到8%以下零階繞射的次微米相位光罩，在相位光罩的應用上，利用具有週期是1微米和500奈米之最佳相位光罩，進行近場接觸模式微影， ...

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