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林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來

2002年全球半導體製程技術一路從0.13微米、90奈米到65奈米製程時，開始出現撞牆期，當時半導體業界都把157奈米乾式曝光機當成是理所當然的下世代曝光技術，微影設備大 ...

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