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微影設備是什麼
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https://technews.tw/2021/02/15/euv-mass-production-of-lithography-technology/
挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程
光源是美國Cymer 公司提供的。 因為是第一次採用雷射電漿(laser-produced plasma,LPP)技術來產生波長為13.5 奈米的EUV 光, ...
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