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微影製程英文
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光罩基礎
設計積體電路圖形是由電子束或雷射精準曝寫產生的,再經由顯影,蝕刻製程將光罩製作而成。 晶圓廠再透過微影製程技術,將光罩上之電路圖樣轉換至半導體晶圓上。
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