的雜質或離子均會造成為影圖像相當大的影響。目前光阻劑對雜質的要求必須在十. 億分之一(ppb)的範圍之內。 Page 25. 17. 貳、 曝光. 整個微影製程當光阻劑經過軟烤的步驟 ...
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