對抗蝕刻、離子佈質的遮蔽和無針孔則需要較厚的光阻薄膜 正光阻因為聚合體的尺寸較小,所以有較好的解析力. Ref: Hong Xiao, 半導體製程技術導論(修訂二版), 全華圖書34.
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