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微影技術演進
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EUV機台耗電量增10倍台積電大數據提升5%效率| 產經 - 中央社
半導體技術日新月異,台積電指出,極紫外光(EUV)技術的應用是半導體製程成功演進到5奈米以下的關鍵,但EUV機台耗電量是傳統深紫外光微影(DUV)機台 ...
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