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半導體製程技術 - 聯合大學

平坦 化. ▫ 平滑化與局部的平坦化可以藉由加熱流動以及回蝕刻製程. 而達到. ▫ 全面性的平坦化對於圖形尺寸小於0.35 μm 是必要的，而. 這只能藉著化學機械研磨才能達到 ...

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