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連續生產型超高頻電漿增強式鍍膜設備設計及其性能探討

並藉此使條件來規劃設備製程參數範圍(功率密. 度)、真空性能(壓力)、硬體(電極間距)。 PECVD的能量來源電漿電位通常採用射頻電. 源(Radio frequency, RF)，圖3 所示為輸入 ...

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