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射頻電漿原理
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連續式-物理氣相沉積系統(In- Line Physical Vapor Deposition)
設備原理: 連續式物理氣相沉積系統裝配三支六吋靶槍,並使用一支六吋直流 ... 可改變電漿之離子化程度,進而對薄膜微結構、晶相與相關性質產生影響。
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