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碩士論文蝕刻製程在不同晶圓載台轉速下之電漿流動的數值模擬

高能量的離子能. 夠轟擊晶圓表面，破壞原子鍵結以利於化學性蝕刻，由於離子能快速去除表面. 生成物，使離子能夠連續不斷地蝕刻晶圓，所以射頻功率增加，蝕刻速率亦跟. 著 ...

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