你即將離開本站

並前往https://patents.google.com/patent/TWI538571B/zh

TWI538571B - 電漿均勻性調諧用多射頻阻抗控制

在一實施例中，諸如四氟化碳(CF 4)及八氟環丁烷(C-C 4F 8)之碳氟化物氣體因其異方性及選擇性蝕刻能力而使用在介電蝕刻製程中，但在此描述的工作原理可應用於其他的電漿 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「射頻電漿原理」的人也找了：

  1. 電漿原理ppt
    2.
  2. 電漿蝕刻原理
    3.
  3. 大氣電漿原理
    4.
  4. 電漿發光
    5.
  5. 電漿是什麼
    6.
  6. 電漿真空
    7.
  7. 電漿蝕刻機
    8.
  8. o2 plasma原理
    9.