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什麼是EUV？它能製造先進製程晶片，但有3個缺點需要克服

隨著精細化到30 奈米級以下，該設備無法一次性拍攝出最重要的部分電路圖案。事實上，ArF Emergion 設備的極限是35 奈米。因此半導體企業針對最精細的 ...

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