於2019年完成了國內首次100%自製之四吋半絕緣碳化矽(S.I.-SiC)基板,氮化鎵(GaN)磊晶技術開發,和線寬為0.45μm、0.25μm、0.15μm之電晶體元件、場效電板設計及空橋式內連線 ...
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