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天堂花園仙履蘭極致修護面膜成份| CosDNA

成份 概略特性 粉刺 刺激 安心度 Propanediol. 1, 3‑丙二醇 溶劑, 黏度控制 1 Butylene Glycol. 丁二醇, 1, 3‑丁二醇 溶劑, 香料, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼 1 0 1 Hydroxyacetophenone. 對羥基苯乙酮 抗氧化 1

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