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晶圓旋轉光阻塗佈機-KED凱爾迪科技股份有限公司 - 半導體製程

晶圓全自動上光阻機，適用8”晶圓凸塊製程，分為晶圓傳送、旋轉塗佈及烘烤區。 • 可提供二種光阻不同膜厚製程。光阻利用高壓瓶或精準微量pump 供應，輸出光阻量精確可 ...

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