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埃米半導體
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真正掐住台積電脖子的企業艾司摩爾(ASML) - 林子揚的部落格
理論上三代EUV曝光設備⽣產的晶片精度最多2 奈米左右,⼀旦進入2奈米節點以下,也就是埃米(1 埃米=0.1 奈米)時,艾斯摩爾必須研發更⾼精準度的曝光 ...
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