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[新聞] 下世代高數值孔徑EUV 售價逾80 億元， - 看板Stock

理論三代EUV 曝光設備生產的晶片精度最多2 奈米左右， 一旦進入2 奈米節點以下，也就是埃米（1 埃米＝0.1 奈米）時，ASML 還得研發更高精準度的曝光 ...

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