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一台83億！ASML「天價EUV曝光機」，將掀資本支出大戰

理論上，三代EUV曝光設備生產的晶片精度最多2奈米左右，一旦進入2奈米節點以下，也就是埃米（1埃米＝0.1奈米）時，ASML還得研發更高精準度的曝光設備 ...

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