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CVD/ALD Precursor 前驅材料 - 東昇應材

TEOS, 四乙氧基矽烷、四乙氧基硅烷, 9N. HCDS, 六氯矽烷、六氯硅烷, 6N. BTBAS, 双(叔丁基氨基)硅烷, 6N. TDMAT, 四（二甲胺基）鈦, 6N. 4MS, 四甲基矽烷, 6N.

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