原子層膜(ALD)製程氮矽與氧矽薄膜介電層材料. - 高/低介電層(High/Low K)材料. 先進製程高階蝕刻與清潔特用原料. - 奈米化薄膜高純度高效蝕刻特用化學品. 高階蝕刻.
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