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台積電cvd製程
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台積電3篇論文獲VLSI肯定- 工商時報
原本生產WS2薄膜的傳統製程要求將材料先沉積於藍寶石基板,移除後再放置於矽晶圓之上,相較之下,通道區域選擇性CVD提供了更加簡易的量產方法。
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