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台積電cmp製程
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台積電晶圓良率提升的秘密武器-奈米微粒監控系統 - i創科技
在半導體濕式製程中,晶圓表面的清洗、蝕刻與研磨皆需仰賴特定化學溶液進行,而溶液中奈米粒子的尺寸與分布會影響晶圓電路圖案(pattern)的製程結果,必需持續監控 ...
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