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smee 28nm duv. 目前全球半导体前道用光刻机的生产厂商有4 ...

该报道还称，上海微电子管理层最近表示，“提高48nm 和28nm 的良率仍然是一个挑战，但SMEE 技术现在拥有基本的本土UV ... 5nm，而10nm节点甚至需要低于3nm的套刻误差。

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