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三星攻克3nm良率“难关” - 集微网

之前有消息称由于良率以及散热问题，导致大客户英伟达和高通转单。 ... 了45%以上，功耗降低了50%，性能提高了约35%，从纸面参数上来说要优于台积电3nm FinFET工艺。

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