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Ch9 Etching

表面物質去除化的製程: 化學蝕刻、物理蝕刻、複合蝕刻 ... Selectively remove Ti, but not touching SiO2 and Ti/Si. 鋁的濕式蝕刻. 12. 鈦金屬矽化物自我對準製程.

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