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台積電2奈米將採用哪種技術？ - 科技產業資訊室

Vertical GAA FET將用於尚待開發的3D電晶體結構中。 令人驚訝的是，IRDS預測193nm微影製程技術( lithography)的部署遠到2034年仍會看到。本來 ...

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