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半導體製程的發展越來越迅猛

相比三星直接引入 EUV 光刻的激進，台積電在 7 奈米選擇求穩路線，並沒有急於進入極紫外曝光時代。台積電表示將繼續使用 DUV 曝光，利用沉浸式曝光和多重 ...

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