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反應離子蝕刻原理
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「面板制程刻蚀篇」最全Dry Etch 分类、工艺基本原理及良率剖析
干式刻蚀通常指利用辉光放电(glow discharge)方式,产生包含离子、电子等 ... 在半导体以及LCD制程中,纯化学反应性蚀刻应用的情况通常为不需做图形 ...
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