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反應離子蝕刻設備

反應離子蝕刻 （RIE）中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性，並具有重複性。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。 因此，RIE製程是化學物理蝕刻製程， ...

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